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略歴
　　　　　　　　　

１９９８年
建設途中の国立北陸先端科学技術大学院大学
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　

１９９８年
直江津電子工業株式会社

卒業研究

Observation of Distinct Metallic Conductivity in NaCo₂O₄
Tomoaki Tanaka, Shin Nakamura and Shuichi Iida
Jpn. J. Appl. Phys. Vol. 33 (1994) pp. L581-L582
http://jjap.ipap.jp/link?JJAP/33/L581/

特許

（シリコンウエハー製造装置）
１９９６年３月２８日出願
発明者＝田中智明、岩片誠一、関川正平
発明の名称＝薄板の面加工方法および面加工装置
特許出願平 H08-74488
特許公開平 H09-262762

（シリコンウエハー製造装置）
１９９６年３月２８日出願
発明者＝田中智明、西巻信幸、関川正平
発明の名称＝面加工装置
特許出願平 H08-74501
特許公開平 H09-262759

tomoaki_hr_tanaka@yahoo.co.jp

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