【研究分野】


【経歴】


【航空写真】

 
2017年4月
私立帝京大学理工学部宇都宮キャンパス
                            



1998年3月
建設途中の国立北陸先端科学技術大学院大学
                                     



1996年8月
上.日本海
中の上.独立行政法人国立病院機構さいがた医療センター
中の中の右下,赤屋根.直江津精密加工株式会社
中の上の左端,青屋根.信越半導体犀潟工場
中の中,赤屋根.直江津電子工業株式会社
                            
                            




【卒業論文】

Tomoaki Tanaka, Shin Nakamura and Shuichi Iida
Observation of Distinct Metallic Conductivity in NaCo2O4
Jpn. J. Appl. Phys. Vol. 33 (1994) pp. L581-L582.
http://iopscience.iop.org/1347-4065/33/4B/L581/
[PDF]


【特許】

(シリコンウエハー製造装置)
1996年3月28日出願
発明者=田中智明、岩片誠一、関川正平
発明の名称=薄板の面加工方法および面加工装置
特許出願平 H08-74488
特許公開平 H09-262762
[PDF]


【特許】

(シリコンウエハー製造装置)
1996年3月28日出願
発明者=田中智明、西巻信幸、関川正平
発明の名称=面加工装置
特許出願平 H08-74501
特許公開平 H09-262759
[PDF]


【原案】

(フォトマスク基板の加工法と加工装置)
2007年4月15日
田中智明
日本語[PDF]
July 5, 2019
English[PDF]


【原案】

(熱電変換モジュール)
2014年10月25日
田中智明
日本語[PDF]
July 9, 2019
English[PDF]






飯田先生宅にて1999年7月10日(土曜日)飯田先生昼食後
飯田修一先生と田中智明


卒業研究指導教官

Home Page of Shuichi Iida:飯田修一のホームページ




tomoaki_hr_tanaka@yahoo.co.jp

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五コク条・川柳
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